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| AP-3 & AP-4研磨头，功能齐备，用于高/低量的半自动样品制备，可以选择中心旋转和个别旋转等工作方式。导电气动系统控制研磨样品的力量，并根据装置、研磨盘、样品固定台等条件，一次可以同时制备1至10个样品。它适用于METPREP和DUALPREP抛光机，可配置8、10、12英寸(203mm,254mm,304mm)研磨盘。 微处理器控制AP-3 & AP-4与抛光机相结合，能提供50个步骤的自动程序，包括开始/结束，时间，试品的研磨力度，研磨盘的速度/转向，水的控制等等。独特的倾斜设计使操作更方便，样品台与研磨盘之间没有任何阻碍，研磨头在程序准备期间不必重新配置。 可选用多种工作方式的样品台。圆状样品台适用于热包埋样品，泪状样品台适用于冷包埋样品或未包埋的样品。
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| 中心研磨专用样品台： 5.25英寸（134mm）适合8", 10"或12"(203mm, 254mm,304mm)研磨盘： | ||||||||||||||||||||||||
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| 6.3英寸（160mm）（适合10"或 12"研磨盘） | ||||||||||||||||||||||||||
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| 单独研磨专用样品台： 适合8", 10"或 12"研磨盘 | ||||||||||||||||||||
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